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对应于一掺杂Si半导体,室温时空穴的来源包括()
对应于一掺杂Si半导体,室温时空穴的来源包括()
A.掺入n型杂质
B.掺入p型杂质
C.本征激发
D.引入深能级
正确答案:掺入p型杂质;本征激发
“半导体中载流子的定量统计描述”测试题
标签:
半导体物理
杂质
半导体
上一条:
下面()过程属于间接复合的微观过程
下一条:
T0K时,位于EF以上的能级,随着温度的升高,电子占据能级的几率()