CF4等离子体中每增加（）的氧气，氟浓度会增加一个数量级，对硅的刻蚀速率增加一个数量级

CF4等离子体中每增加（）的氧气，氟浓度会增加一个数量级，对硅的刻蚀速率增加一个数量级
A、10%
B、12%
C、14%
D、16%
正确答案：12%