均匀膜层厚度是薄膜技术中的关键问题，其取决于：

均匀膜层厚度是薄膜技术中的关键问题，其取决于：
A、蒸发源的蒸发特性
B、基板与蒸发源的几何形状
C、基板与蒸发源的相对位置
D、蒸发物质的蒸发量
正确答案：蒸发源的蒸发特性|基板与蒸发源的几何形状|基板与蒸发源的相对位置|蒸发物质的蒸发量