PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是（）

PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是（）
A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜
B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜
C、巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜
D、非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同
E、理想的氧化膜厚度为0.2～2μm
正确答案：A