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以下对于非晶硅薄膜描述错误的是()
以下对于非晶硅薄膜描述错误的是()
A.非晶硅与单晶硅的raman谱的峰位不同
B.非晶硅的光吸收系数高于单晶硅,有利于光电转换
C.由于非晶硅薄膜中存在比较高的缺陷和局域态密度,通常不能进行掺杂
D.非晶硅的能带结构与晶体硅相同,禁带宽度均为1.12eV
正确答案:非晶硅的能带结构与晶体硅相同,禁带宽度均为1.12eV
标签:
半导体材料
单晶硅
能带
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以下不是外延硅的主要缺陷()
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外延生长是一种生长硅单晶薄膜的方法,衬底材料中使用蒸发速率比较小的掺杂元素可以抑制自掺杂,比如Sb。