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关于溅射过程,下列说法不正确的是()
关于溅射过程,下列说法不正确的是()
A、溅射一般使用Ar+离子轰击靶材,通过撞击,从表面撞出一个或多个原子
B、Ar被用作溅射离子的原因是它是活性气体,可以和靶材料发生化学反应
C、用一个高能电子轰击中性的Ar原子,碰撞出外层电子,产生带正电的Ar+离子
D、被撞击出的单个或多个原子到达晶圆表面,形成薄膜
正确答案:Ar被用作溅射离子的原因是它是活性气体,可以和靶材料发生化学反应
标签:
离子
原子
化学反应
上一条:
下列对于CVD描述正确的是()
下一条:
光刻工艺中的常用曝光方式不包括下列哪一项: