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CMOS集成电路的主要工艺分为、（）、（）。

CMOS集成电路的主要工艺分为、（）、（）。
正确答案：P阱工艺|N阱工艺|双阱工艺

标签：工艺集成电路

上一条：通常在源区和漏区增加源漏拓展区的轻掺杂区域是为降低、减小。

下一条：在CMOS集成电路中P沟道MOS管作为，N沟道MOS管作为（）。