晶体硅电池制备中，以下哪种方法可以减少硅片正面对光的反射？

晶体硅电池制备中，以下哪种方法可以减少硅片正面对光的反射？
A、在硅片表面形成粗糙的表面，即制备绒面
B、在电池背面制备膜层
C、在硅片正面制备减反射膜
D、优化晶体硅的长晶工艺
正确答案：在硅片表面形成粗糙的表面，即制备绒面|在硅片正面制备减反射膜