制造霍尔元件的半导体材料中，目前用的较多的是锗.锑化铟.砷化铟，其原因是这些（）。

制造霍尔元件的半导体材料中，目前用的较多的是锗.锑化铟.砷化铟，其原因是这些（）。
A.半导体材料的霍尔常数比金属的大
B.半导体中电子迁移率比空穴高
C.半导体材料的电子迁移率比较大
D.N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
正确答案：D