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平面双极型晶体管的实际工艺中,基区的掺杂采用杂质总量不变的方法而形成的分布是()。
平面双极型晶体管的实际工艺中,基区的掺杂采用杂质总量不变的方法而形成的分布是()。
A.均匀分布
B.线性分布
C.高斯分布
D.余误差分布
正确答案:高斯分布
标签:
半导体器件原理与仿真设计
晶体管
误差
上一条:
BJT大注入情况下不会引起()。
下一条:
双极型晶体管大注入时,将引起基区电导()。