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光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作?
光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作?
A.打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶
B.打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶
C.打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶
D.打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀
正确答案:打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶
标签:
微电子工艺
涂胶
打底
上一条:
铝的蒸发温度是1250℃,这时它的平衡蒸汽压是()Pa。(精确到小数点后两位)
下一条:
下列有关曝光的描述正确的是: