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下列有关曝光的描述正确的是:
下列有关曝光的描述正确的是:
A.确定图案的精确形状和尺寸;
B.步进曝光机一次就可以完成曝光;
C.使受光照射区域的光刻胶膜发生化学反应形成潜影;
D.需要进行准确对版后再曝光,才能保证各次光刻的套准精度。
正确答案:确定图案的精确形状和尺寸;;使受光照射区域的光刻胶膜发生化学反应形成潜影;;需要进行准确对版后再曝光,才能保证各次光刻的套准精度。
标签:
微电子工艺
光刻
胶膜
上一条:
光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作?
下一条:
关于光学光刻,下列哪种方法可以获得高分辨率?