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在CMOS工艺中，通常采用对光刻胶曝光显影来实现所设计结构的图案制备。

在CMOS工艺中，通常采用对光刻胶曝光显影来实现所设计结构的图案制备。
A.正确
B.错误
正确答案：A
标签：半导体技术导论 光刻 图案
上一条：以下半导体产线上最昂贵的设备是（）？
下一条：逻辑电路的基本元件是MOS管。