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提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。
提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。
A.正确
B.错误
正确答案:A
标签:
半导体技术导论
光刻
常数
上一条:
MBE只能用于III-V族化合物的生长。
下一条:
在CMOS工艺中,最为昂贵的步骤是:()