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在CMOS工艺中，最为昂贵的步骤是：（）

在CMOS工艺中，最为昂贵的步骤是：（）
A.腐蚀
B.离子注入
C.光刻
D.CVD
正确答案：光刻

标签：半导体技术导论光刻离子

上一条：提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。

下一条：光刻技术中的反刻工艺，通常应用于（）的情况。