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目前SOI材料的主流制备技术是注氧隔离技术和智能剥离技术。
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A.正确
B.错误
正确答案:错误
标签:
半导体材料
技术
主流
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硅的同质外延生长的原理是用氢气还原硅的氯化物。
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硅片键合技术主要是由于吸附在被氧化的两个硅表面的羟基团吸引形成氢键所致。