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硅片键合技术主要是由于吸附在被氧化的两个硅表面的羟基团吸引形成氢键所致。

硅片键合技术主要是由于吸附在被氧化的两个硅表面的羟基团吸引形成氢键所致。
A.正确
B.错误
正确答案：正确

标签：半导体材料氢键硅片

上一条：目前SOI材料的主流制备技术是注氧隔离技术和智能剥离技术。

下一条：For these reasons, it is crucial to have tight control of the plasma dose (It has been proven by numerous previous studies) during clinical plasma treatments.