光刻工艺中脱水烘培，最主要的原因是（）

光刻工艺中脱水烘培，最主要的原因是（）
A、脱水：以去除吸附的大部分水汽
B、增加紫外光的能量
C、以便检验硅片的洁净度
D、提高硅片温度，节省软烘的时间
正确答案：脱水：以去除吸附的大部分水汽