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光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况。
光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况。
A.对光刻精度较高
B.光刻图案密度较高
C.光刻的材料易于腐蚀
D.光刻的材料难以腐蚀
正确答案:光刻的材料难以腐蚀
标签:
半导体技术导论
光刻
材料
上一条:
在CMOS工艺中,最为昂贵的步骤是:()
下一条:
通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。