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制作一硅晶体管芯片,在最后用热氧化方法制备了一层SiO2作为保护层。
制作一硅晶体管芯片,在最后用热氧化方法制备了一层SiO2作为保护层。
A.正确
B.错误
正确答案:错误
标签:
微电子工艺
保护层
晶体管
上一条:
关于氧化速率下面哪种描述是正确的:
下一条:
热氧化速率快慢排序:氧化最快、氧化次之、氧化最慢。(从“干氧、湿氧、水汽”中选择填空,中间用“、”隔开)