首页
›
答案
›
标签
›
半导体物理学
半导体物理学
101
nopo=ni2标志着半导体处于()状态,当半导体掺入的杂质含量改变时,乘积nopo改变否?();当温度变化时,nopo改变否?()。
102
电子是带()电的();空穴是带()电的()粒子。
103
受主杂质电离后向半导体提供(),施主杂质电离后向半导体提供(),本征激发向半导体提供()。
104
如果在神州十号太空实验室里,生长的GaAs具有很高的载流子迁移率,这是因为()的缘故。
105
在光电转换过程中,硅材料一般不如GaAs量子效率高,其因是()
106
GaAs的导带极值位于布里渊区()
107
若某半导体导带中发现电子的几率为零,则该半导体必定()
108
欲在掺杂适度的无表面态n型硅上做欧姆电极,以下四种金属中最合适的是()
109
某材料的电阻率随温度上升而先下降后上升,该材料是()
110
对于Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体,随着平均原子序数的增加()
111
硅中掺金的工艺主要用于制造()器件
112
对于只含一种杂质的非简并n型半导体,费米能级EF随温度上升而()
113
如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以()导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以()导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以()导电为主。
114
半导体中的载流子扩散系数的大小取决于()
115
把磷化镓在氮气氛中退火,会有氮取代部分的磷,这会在磷化镓中出现()。
116
根据费米分布函数,电子占据(EF+KT)能级的几率()
117
一般半导体器件使用温度不能超过一定的温度,这是因为载流子浓度主要来源于(),而将()忽略不计。
118
一块半导体寿命τ=15μs,光照在材料中会产生非平衡载流子,光照突然停止30μs后,其中非平衡载流子将衰减到原来的()。
119
硅导带结构为()。
120
半导体中由于浓度差引起的载流子的运动为()。
121
如果杂质既有施主的作用又有受主的作用,则这种杂质称为()。
122
同一种施主杂质掺入甲、乙两种半导体,如果甲的相对介电常数εr是乙的3/4,mn*/m0值是乙的2倍,那么用类氢模型计算结果是()。
123
杂质对于半导体导电性能有很大影响,下面哪两种杂质分别掺杂在硅中能显著地提高硅的导电性能()。
124
一般半导体它的价带顶位于(),而导带底位于()。
125
一般可以认为,在温度不很高时,能量大于费米能级的量子态基本上(),而能量小于费米能级的量子态基本上为(),而电子占据费米能级的概率在各种温度下总是(),所以费米能级的位置比较直观地标志了电子占据量子态的情况,通常就说费米能级标志了电子填充能级的水平。
126
当施主能级ED与费米能级EF相等时,电离施主的浓度为施主浓度的()倍。
127
在n型半导体中()
128
重空穴是指()
129
PN结击穿主要有下列哪三种物理机制()
130
当PN结外加反向电压时,扩散电流与漂移电流的关系及耗尽层宽度的变化为()。
131
在P型半导体中()
132
自补偿效应的起因是()
133
下面情况下的材料中,室温时功函数最大的是()。
134
与半导体相比较,绝缘体的价带电子激发到导带所需的能量()。
135
电子在晶体中的共有化运动时指()
136
最有利陷阱作用的能级位置在()附近
137
最有效的复合中心能级位置在()附近。
138
载流子在电场作用下的运动为()。
139
杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是()。
140
砷有效的陷阱中心位置()
141
一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t后,其中非平衡载流子将衰减为原来的()。
142
半导体中少数载流子寿命的大小主要决定于()
143
Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体中的M空位Vm是()
144
金属和半导体接触分为:()。
145
导带底的电子是()。
146
空穴是()。
147
与绝缘体相比,半导体的价带电子激发到导带所需要的能量()。
148
对掺杂的硅等原子半导体,主要散射机构是:()。
149
对于一定的N型半导体材料,在温度一定时,减小掺杂浓度,费米能级会()。
150
砷化稼的能带结构是()能隙结构。
151
本征半导体是指()的半导体。
152
有效复合中心的能级必靠近()。
153
公式*q/m中的τ是半导体载流子的()。
154
锗的晶格结构和能带结构分别是()。
155
MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型()。
156
如果一半导体的导带中发现电子的几率为零,那么该半导体必定()。
157
在热平衡状态时,P型半导体中的电子浓度和空穴浓度的乘积为常数,它和()有关。
158
将Si掺杂入GaAs中,若Si取代As则起()杂质作用。
159
在晶体硅中掺入元素()杂质后,能形成N型半导体。
160
在Si材料中掺入P,则引入的杂质能级()
161
当一种n型半导体的少子寿命由直接辐射复合决定时,其小注入下的少子寿命正比于()。
162
对于一定的n型半导体材料,温度一定时,减少掺杂浓度,将导致()靠近Ei。
163
将Si掺杂入GaAs中,若Si取代Ga则起()杂质作用。
164
对于只含一种杂质的非简并n型半导体,费米能级EF随温度上升而()。
165
对大注入条件下,在一定的温度下,非平衡载流子的寿命与()。
166
联大学堂《半导体物理学(周口师范学院)》题库及答案
‹
1
2
›